我就只說這麼一個思路吧，再多的我就不說了，都是技術機密。
至於光刻膠殘留造成的顯影缺陷，那就更容易解決了，我再說一遍我們是搞製程的，不是搞化學的，光刻膠今後再怎麼進化，用聚乙烯醇肉桂酸脂也好，環氧橡膠雙疊氮也好，酚醛樹脂重氮萘脂也好，那都是化工企業的問題，他們廠家怎麼改進配方，那都不是我們要關心的問題。
爲了徹底脫膠，我的思路是上雙層膠，降低膠膜對光源的反射，也就是目前國際上剛提出來的用抗反射劑來解決膠體殘留影響曝光的思路，其中一層膠體在曝光下分解酸性氣體，可以徹底清除殘膠，解決殘膠影響曝光的問題，從而解決顯影缺陷。
好吧，我就說這麼多看，至於具體的雙膠工藝如何做，那都是技術機密，我不能說。
總之突破這兩個工藝之後，製程技術直上50納米不成問題！今後我們重光的製程技術攻關就在這兩點上！！！”
要知道，胡一亭在跳槽華創擔綱天思930芯片研發總設計師之前，他在浦海微電子裝備集團就是專門負責集成電路生產設備的製造與生產工藝流程結合，負責爲光刻機等先進製程設備與具體IC生產工藝融合而設計最佳方案的！若論對於晶圓廠製程工藝的瞭解，他算是1996年地球上排名第一的學術權威。
這年頭國內的製程工藝比起西方來還差得遠，西方對華的技術封鎖造成了國內在這方面有大量技術空白。
對於在場的工程師們來說，胡一亭的話就像飛流直下三千尺的瀑布一樣具有衝擊力，聽在耳朵裏簡直就像是晴天霹靂，大家覺得胡一亭的路子實在是邪門！實在是野！但似乎又充滿了讓人渾身起雞皮疙瘩的靈感！就好像在大家的眼前打開了一閃光芒四射的大門！門後是堆積如山的奇珍異寶正在爍爍發光！
胡一亭低着頭說完之後，擡起頭來，見所有人都在激動而不安地注視着他。
以爲大家不相信自己的胡一亭開始惱火，揚聲大吼道：
“怎麼啦？我說錯啦？誰不服站出來說說你的解決方案！
你們啊！圖樣圖森破！
我胡一亭是不可能錯的！
只要你們跟着我幹！0.35微米那就是小菜一碟！
50納米……指日可待！！！”